近日，国产光刻机领域传来一则重要消息：上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的350nm步进投影光刻机（AST6200）顺利通过国内化合物半导体领域头部客户的工艺验证，并成功斩获批量重复订单。这一成果标志着国产光刻机在关键技术领域取得新突破，市场认可度进一步提升。
AST6200光刻机具备广泛的应用场景，可覆盖功率器件、射频前端、光电子芯片及Micro LED新型显示等多个制程领域。其核心优势体现在关键工艺效果、工艺适应性以及软件控制系统三大方面。在关键工艺效果上，该设备搭载高性能投影物镜与先进照明模式，能够实现350nm高分辨率精细图案化，满足Si、SiC、GaN、GaAs、InP、蓝宝石等多种衬底材料的光刻需求。高精度对准系统确保多层图形精准套刻，显著提升器件良率。同时，高照度光源、高速基底传输系统及高动态运动台的应用，有效提高了单位时间产出，帮助客户降低单颗芯片的综合拥有成本。
工艺适应性方面，AST6200光刻机创新采用调焦调平系统，能够稳定测量透明、半透明、不透明及大台阶等多种基底，确保复杂衬底条件下的曝光质量。平边对准和背面对准模块的加入，满足了特殊基底晶向解理和键合片对位等复杂制程需求。设备支持从2英寸到8英寸多种规格基片，兼容平边、双平边、Notch等主流基底类型，实现了“一机多用”，为客户产线切换提供了极大灵活性。
在软件控制系统上，AST6200光刻机搭载了芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理实现100%自主可控。该系统具备强大的工艺扩展能力与远程运维功能，能够持续为设备全生命周期赋能，助力客户实现智能化、高效率的产线运营。
从首台AST6200光刻机交付到实现批量复购，这一过程不仅体现了产品开发与产业实际需求的高度契合，也证明了设备核心性能与稳定性经受住了市场的严格检验。据了解，芯上微装成立于2025年2月8日，是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的创新型科技企业。公司致力于为IC前道芯片制造、晶圆级/板级先进封装、化合物半导体和新型显示等应用领域提供高精度、高性能、高可靠性的设备及解决方案。
芯上微装拥有一支实力雄厚的技术团队，约600人，平均年龄33岁，其中65%为硕士博士学历。团队中不乏上海市劳动模范、上海市优秀技术带头人、上海市青年科技启明星计划、上海市产业菁英领军人才，以及浦东明珠计划人才/工程师等高层次人才。
值得一提的是，在成立后的短短几个月内，芯上微装便取得了令人瞩目的成绩。2025年8月8日，公司举办了第500台步进光刻机交付仪式；同年11月25日，宣布自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，并启程发往客户现场。
业内信息显示，芯上微装是国产光刻厂商上海微电子装备（集团）股份有限公司分拆出来的独立公司，拟募资独立IPO。目前，其主力产品包括晶圆级先进封装光刻机、激光退火设备和前道晶圆缺陷检测设备。2025年底，上海微电子将其子公司上海威耀实业有限公司100%股权转让给了芯上微装，后者认缴出资额2.285亿元。
